高纯氧气在常温常压下呈无色无味的气态，密度略高于空气，这使其在自然环境中能缓慢下沉、均匀分布。
氧气的沸点为 - 183℃，低温时会凝结成淡蓝色液体，液态氧在航天、低温实验等领域有特殊用途。它在水中有一定溶解度，虽溶解度不高，却对水生生物的呼吸至关重要，是水生生态系统物质循环与能量流动的关键一环。
高纯氧气纯度很高，杂质近乎可忽略不计，确保了在对气体纯度要求严苛的电子等精密领域，能够稳定发挥作用，为生命维持与生产提供可靠基础。
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在半导体制造中，高纯氧气是生产芯片的关键气体之一，用于氧化硅片、清洗设备和作为载气。
高纯氧气的高纯度和稳定性确保了芯片制造过程中的高精度和低污染。例如，在氧化工艺中，高纯氧气与硅反应生成二氧化硅层，作为芯片的绝缘层；
在清洗过程中，高纯氧气用于去除表面杂质，提高芯片性能。由于半导体对气体纯度要求很高，高纯氧气需经过多次净化，去除微量杂质，以满足生产工艺需求。随着半导体行业的快速发展，高纯氧气的需求将持续增长。
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高纯氧气如何制取？
制取高纯氧气通常有以下方法。
一是低温精馏法，利用空气各组分沸点不同，通过多级精馏将氧气从空气中分离并提纯。
二是变压吸附法，采用对氧气有选择性吸附的吸附剂，在不同压力下吸附和解吸，从而得到高纯氧气。
三是膜分离法，利用特殊的高分子膜对氧气和其他气体的渗透速率不同，实现高纯氧气的分离与提纯。
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