在半导体制造中，高纯氧是生产芯片的关键气体之一，用于氧化硅片、清洗设备和作为载气。
高纯氧的高纯度和稳定性确保了芯片制造过程中的高精度和低污染。例如，在氧化工艺中，高纯氧与硅反应生成二氧化硅层，作为芯片的绝缘层；
在清洗过程中，高纯氧用于去除表面杂质，提高芯片性能。由于半导体对气体纯度要求很高，高纯氧需经过多次净化，去除微量杂质，以满足生产工艺需求。随着半导体行业的快速发展，高纯氧的需求将持续增长。
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高纯氧有哪些用途？
高纯氧有多种用途。在医学领域，可用于急救、呼吸支持和救治某些疾病，帮助患者维持正常的氧合。
在工业上，用于金属焊接、切割，能提高燃烧效率和焊接质量。
在电子工业中，高纯氧用于半导体制造等工艺，保证产品质量。
在航空航天领域，为飞行员提供呼吸用氧，也用于火箭发动机的助燃。
此外，在潜水、登山等领域，高纯氧也为人员提供安全的呼吸气体。
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高纯氧主要用于哪些领域？
高纯氧应用广泛：
医liao领域用于患者氧疗、辅助；航天航空中作为火箭推进剂氧化剂；
电子行业用于半导体晶圆氧化工艺、光刻胶去除；
冶金工业助力特种钢冶炼，提升纯度；科研领域用于实验室氧化反应、生物培养；
此外，还用于深海潜水呼吸气体配制、激光切割助燃等。
高纯氧可避免杂质干扰，如电子行业需 6N 级以上防止芯片污染，医liao用需严格控制有害杂质。
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